【图文导读】图1K在吡咯-N、山东数线吡啶-N、石墨-N和石墨烯上的吸附与扩散(a)K在吡咯-N、吡啶-N、石墨-N和石墨烯上的吸附能。

图2MoS2经NaClO化学活化后边缘形态分析（a）NaClO化学活化后，招收MoS2边缘形态的AFM图像。培养本文由材料人编辑部张金洋编译整理。

军士及资（f）刻蚀长度与时间的关系图。体检（d）MoS2纳米片在化学刻蚀前后及刻蚀后边缘和基面区域的拉曼光谱比较图（插图：405cm-1处的拉曼强度映射图）。考生图3O2plasma预处理对MoS2刻蚀的作用分析（a）O2plasma在MoS2基面上制造缺陷示意图。

名单（b）图a样品的塔菲尔曲线图。（c）顶视图观察，格分公布刻蚀后边缘椅式结构的MoS2示意图。

（b-e）0.03mol·L-1NaClO溶液蚀刻机械剥离的MoS2纳米片10，山东数线20和30分钟前后AFM图像（插图：相应的光学图像）。

招收（c）MoS2表面刻蚀形成的tringle凹坑的原子结构的示意图。主攻高端市场的当贝表现亮眼，培养销量环比增长22%，销量排名第四。

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